国芯网[原:中国半导体论坛] 振兴国产半导体产业！

不拘中国、放眼世界！关注世界半导体论坛↓↓↓

1月8日消息，据台媒报道，台积电去年8月爆发泄密案，2nm制程机密疑被内部员工流向日本TEL公司，台地方法院起诉前台积电员工陈力铭等3人。

近日，检方侦查终结，发现陈力铭还勾结另一名台积电陈姓工程师，以及TEL卢姓主管涉嫌湮灭证据，因此追加起诉此二人与东京威力公司。

打开网易新闻 查看精彩图片

泄密案于去年8月爆发，陈力铭是原台积电员工，后转至东京威力科创任职，其涉嫌透过台积电工程师吴秉骏、戈一平，翻拍传送台积电制程机密，台地方法院当时起诉3人，分别求刑14年、9年、7年；随后也追加起诉东京威力科创，4罪分别求处罚金4000万、800万、4000万、4000万，请定应执行刑1亿2000万元。

而检方持续追查后发现，陈力铭的云端硬盘中还存有14nm以下制程之关键技术，随后主动坦承犯行，供出另一名台积电内的陈姓工程师共犯，检方去年11月初发动侦查带回陈姓工程师，讯后声请羁押获准。

检方表示，此外，东京威力公司卢姓主管在案发后，删除陈力铭上传至公司的机密资料，涉嫌湮灭证据，已构成妨害刑事案件调查。

检方指出，考虑陈力铭自白及协助侦办，求处有期徒刑7年；陈姓台积电员工迄今未完全坦认犯行，犯后态度不佳，求处有期徒刑8年8月；东京威力公司卢姓主管仍否认犯行，求处有期徒刑1年。

检方提到，而东京威力公司依检察官要求提供相关资料，配合调查，有助对厘清案情，惟仍难认公司已完全尽防止义务，因此依法求处罚2500万元新台币。

半导体论坛百万微信群

第一步：扫描下方二维码，关注国芯网微信公众号。

文章内容整理自网络，如有侵权请联系沟通