中芯国际斥资7.6亿人民币从ASML购买EUV极紫外光刻机，未来可用于出产7nm技术芯片。同样是ASML，长江存储近来也迎来了自己的首台光刻机，193nm浸没式，20～14nm技术用于3D NAND闪存晶体，售价4.5亿人民币。

在上海浦东新区康桥工业园南区，华力（华虹旗下）进行了自己第一台工艺设备光刻机的搬运。

光刻机（NXT 1980 0DI）依然由荷兰ASML提供，193nm的双浸入式光刻技术，用于10nm（14～20nm）晶圆的出产，也是国内最先进的浸没式光刻设备。

数据显现，这是该公司的第二条12英寸晶圆出产线，预计每月产能4万片，工艺技术从28纳米开始，最终将具有高性能的14纳米出产能力。

华力12英寸先进出产线建设项目是上海市最大的集成电路产业出资项目，总出资387亿元人民币，项目计划于2022年底建成投产，首要从事芯片出产，要点服务国内设计企业先进芯片的制造，并满足部分事关国家信息安全的要点芯片制造需求。