大约是在美国将华为加入全面限制清单后，网上开始出现上海微电子（SMEE）将在明年交付28nm光刻机的消息，各大网媒都进行了转载，但至今官方并未对这条消息做出任何回应，至于这条消息的源头是哪里，我个人势单力薄是肯定查不到了，但消息本身稍微细想一下似乎有点儿站不住脚。

最主要的就是这个28nm的数字显得挺诡异的。28nm到底指的是什么呢？是光源波长吗？但是DUV（深紫外光）的波长是193nm，EUV（极紫外光）是13.5nm，更短的DUV波长会被介质吸收，所以28nm显然不是指光源。

那是指可制造的芯片制程吗？但是DUV光刻机能生产的芯片的最高精度可以达到7nm（通过多重曝光等手段），如果指的是单次曝光，那ASML目前最先进的DUV光刻机TWINSCAN NXT:2000i也仅能达到38nm左右的分辨率。上海微电子在国产光源都落后于国外的情况下能做到更高精度显然也不现实。

综上，28nm这个数字很可能是某个半导体行业外的对相关技术细节不了解的好事者或媒体人杜撰出来的一个数字，这个数字有很强的蛊惑性，SMEE目前最先进的前道光刻机SSA60/20的分辨率是90nm，而28nm是从低成本转向高性能的一个重要制程节点，跨度上不算太激进，又有足够提气的提升幅度，乍看之下似乎很合理，同时在当前国产崛起的民族情绪下能够吸引足够多的眼球。

上海微电子的前道光刻机型号

尽管如此，我还是不想武断地论断这条消息的真假，只能说现实确实有些丧气，就目前公开的信息来看，中国在前道光刻机领域还落后很多，上海微电子几乎是国产前道光刻机的独苗，而前道光刻机涉及几十项关键核心技术，包括光源、光学模组、传送带等等，国产的替代品可以说是全面落后，事实上即便是ASML也不可能靠一已之力造出世界上最先进的光刻机，其大部分核心部件均来自于第三方厂商，由此可见全国产化的超越有多困难。

当然前途也并不是那么悲观，RCEP的签署狠狠打了正在逆全球化的灯塔国一巴掌，中国不可能也没必要靠自己一人搭建全套的半导体产业链，完全可以寻求和所有非美半导体企业的合作（大量光刻机的核心部件商是非美企业），快速补足自身的短板，之后再逐步实现国产化替代，这历来是中国人的拿手好戏，比如刚通过上海适航审定认证的国产大飞机C919。

很多人觉得欧美意识形态一致，又有瓦森纳协议限制，中国不可能获得他们的先进技术，这个看法放在寻常时期倒也没错，然而疫情蔓延之下，欧美各国经济面临严重危机，甚至欧盟内部都远不是铁板一块，更何况与美国的关系了，事实上英法德等西欧主要国家对美国一直长期采取阳奉阴违的态度，在本国利益面前，任何外交关系都是可以撬动和变化的。RCEP形成的全球最大的单一贸易圈对当下的欧洲，吸引力无疑是巨大的，中国有很多策略可以运用。

中国芯加油！

最后的最后，码字实在不易，都看到这儿了，就请高抬贵手关注一个呗。