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国产3nm刻蚀机传好消息
芯片制造是一项十分复杂的过程，在所需的设备、技术和材料以及人才资源储备等领域，都必须做到万无一失。一项芯片制造工艺可能会涉及几十道步骤，任何一个步骤，环节的疏漏都有可能导致芯片制造的失败，所以芯片制造设备的性能品质非常重要。
一般来说，芯片制造需要光刻机、刻蚀机、离子注入机、清洗机、薄膜设备等等。各项环节都会用上不同的设备，而制造前端的两大光刻机和刻蚀机设备对制程工艺的要求非常高。
一台高端EUV光刻机可以聚合极紫外光，而5nm刻蚀机更是决定了在集成电路上雕刻的品质。
目前中国刻蚀机巨头中微半导体的刻蚀机已经用于5nm生产线，而且更先进的3nm国产刻蚀机也传来好消息。
中微半导体公司持续破冰，就3nm刻蚀机领域已经完成了Alpha 原型机设计和制造，测试等开发评估工作。
3nm刻蚀机诞生，往后能够参与到更先进的高端芯片制造产业链中。作为全球刻蚀机设备供应商的中国巨头，这回再次领先世界。
美国都来窃取技术？
或许有人对中微半导体比较陌生，也不明白其生产的刻蚀机有什么意义。其实中微半导体在全球芯片制造设备行业都是首屈一指的，截至去年底共持有1755项专利申请。
而刻蚀机的作用甚至可以比肩光刻机，光刻机负责把设计好的芯片电路图光刻在硅片上，紧接着刻蚀机就是把光刻好的芯片电路图逐一雕刻。
每一个微观细节和集成电路晶体管的纵横交错都不能出差错。
在高端芯片数百亿根晶体管，集成电路的勾勒雕刻过程中，至少需要上千个工艺步骤。但如此高端，复杂的刻蚀机最终被中微半导体突破。然而如此先进的设备，连美国都来窃取技术，怎么回事？
这还得追溯到中微半导体创始人尹志尧发展公司的经历，尹志尧曾在美国半导体公司就职过，最终决定回国创业。
带领十多人的团队在中国创建了如今的中微半导体，可是当制造出第一台刻蚀机的时候，被认为其窃取商业机密，美国公司对此进行起诉。尹志尧坚持自主研发，最终判定中微并未侵权，美国公司最终败诉。
而且中微不断申请专利，反倒是美国维科公司在设备生产中侵权了中微的专利。到底是谁窃取谁的技术，一目了然。
尹志尧：需重视人才培养
中微半导体一直恪守市场规则，过去十几年的发展历程中，却不断被美国公司盯上，认为中微专利侵权，窃取机密。可是在调查数百万份文件之后，并未发现有侵权的地方。
再加上中微半导体越做越强，许多美国公司都离不开中微提供的设备，最终达成和解，美国也向中微开放市场，允许交易发展。这也为中微半导体攻克3nm刻蚀机打下基础，但还是凭借自身技术优势，领先世界。
面对美国现在对全球芯片规则的破坏，和限制国产企业芯片市场，尹志尧表示需重视人才培养的问题。
正如尹志尧所说，人才培养是当下较为要紧的事情，现在国产芯片和国际水准依然有差距，但尹志尧相信迟早会达到世界先进水准，与国际的差距不过5年到10年。
总结
中国刻蚀机巨头中微半导体实力达到了世界顶级水准，其生产的刻蚀机成功进入到台积电生产，3nm刻蚀机也完成了设计，制造等开发工作。
当初被误以为窃取美国机密的中微，最终用实力证明了清白。不但没有侵权，还以绝对的技术优势，反将对方一军。期待国内诞生更多像中微一样的半导体公司，助力国产芯片崛起。
对中微半导体你有什么看法呢？
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