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EUV光刻机是生产高端芯片的必要设备，目前被台积电、三星、英特尔等巨头争相抢购。经过ASML多年的量产，这几大芯片制造巨头都获得了数量不菲的EUV光刻机。

而现在三大巨头改变了争抢光刻机的方向，开始将目光放在了ASML下一代的High-NA EUV 光刻机。

英特尔，台积电相继宣布将引入NA EUV光刻机，在这之后三星也正式确认，和ASML达成了采购新一代EUV光刻机的采购协议。新一代EUV光刻机具备怎样的特性，值得巨头们争抢呢？入手新一代EUV光刻机后，三星能拉近和台积电的距离吗？

三大巨头争抢NA EUV光刻机

荷兰ASML公司是唯一一个能生产高端EUV光刻机的厂商，这对于生产7nm及以下芯片的制造商来说，是必须要打好合作关系的。但能否从ASML手中获得EUV光刻机，还得看实际情况。

台积电是ASML的大股东，所以能获得优先供货EUV光刻机的权利。本以为台积电能在ASML发布下一代NA EUV光刻机时占据上风，拿到首发权，没想到英特尔宣布将首发NA EUV光刻机。

台积电大客户的身份也没能获得NA EUV光刻机的首发，却被英特尔抢了先。不过台积电不会就此放弃争夺NA EUV光刻机，6月中旬，台积电宣布将在2024年引入NA EUV光刻机，为2025年量产2nm芯片做准备。

英特尔，台积电先后出手了，三星再怎么说也是全球第二大芯片制造商，不可能错过NA EUV光刻机的争抢。果不其然，6月30日传来消息，三星正式确认，和ASML达成了下一代NA EUV光刻机的采购协议。

NA EUV光刻机的全面升级

NA EUV光刻机究竟是怎样的一款设备，能同时引来这么多的巨头争抢呢？

和现款的EUV光刻机相比，NA EUV光刻机在价格、光刻工艺、制造技术等方面都有很大的提升。

分别来看，一台NA EUV光刻机的价值达到了4亿美元（约26亿人民币），价格是现款EUV光刻机的两倍左右。这样的设备价格不是一般企业能负担的，也就台积电，三星这些财大气粗的企业能斥下巨资，不计成本抢购。

光刻工艺方面，NA EUV光刻机支持2nm芯片的制造，是台积电，三星2025年量产2nm芯片必须争抢的设备。谁能获得更多的NA EUV光刻机，将决定到时候掌握怎样的市场优势。

另外在制造技术方面，NA EUV光刻机用上了德国蔡司的高数值孔径系统，孔径数达到了0.55，远超现款EUV光刻机0.33孔径数值。采用更高数值的孔径系统只是制造技术升级的一部分，其它方面的光刻胶材料品质，电子特气以及真空腔体等等都会有更高的供应链要求。

可以说NA EUV光刻机是ASML倾注巨大心血打造的，为全球芯片制造行业迈入2nm时代大门提供了钥匙。

NA EUV光刻机会迎来全面升级，由于ASML尚未正式推出NA EUV光刻机，所以更多的性能细节还需要多年以后才能揭晓。就目前来看，NA EUV光刻机会是一款划时代的产品。

新一代EUV光刻机能拉近三星和台积电的距离吗？

值得一提的是，三星在6月30日这一天宣布3nm芯片量产，成为全球首个量产3nm芯片的厂商，比台积电还要提前。

量产3nm芯片之后，三星有更多的时间提高良率，逐步提高芯片市场份额。如果提前量产3nm能为三星赢得宝贵的时间，不排除会在2nm进行深耕研究的可能性，到时候三星会跟上台积电的脚步，一同朝着更先进的2nm进军。

三星会在2024年获得NA EUV光刻机，有了这台更先进的设备之后，三星能拉近和台积电的距离吗？恐怕很有可能。

芯片工艺发展到2nm制程之后，性能提升会越来越困难，台积电即便有领先的芯片制程优势，到了2nm提升幅度也不会太高。

也就是说，物理芯片性能的放缓，极限的到来让三星有了更多追赶的机会。既然工艺提升不高，三星一番努力过后，就有可能拉近和台积电的距离。

当然，拉近距离的也仅仅是工艺差距而已，三星能否在芯片产能，代工市场份额等方面追上台积电的脚步，就是另外一回事了。

总结

三星正式确认，事关新一代的EUV光刻机，和ASML达成了采购协议，其将在2024年获得更先进的芯片制造设备。目前英特尔、台积电、三星都对NA EUV光刻机出手了，未来的芯片制造行业会有哪些精彩呈现，值得期待。

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