自从华为遭遇断芯之后,国产光刻机的发展就一直备受关注。原因很简单,光刻设备是芯片制造环节的关键所在,这是我国半导体产业的一大短板,中芯国际之所以无法像台积电一样给华为代工麒麟芯片,主要就是缺少EUV光刻机

放眼全球,能量产中高端光刻机的厂商屈指可数,只有荷兰ASML以及日本老牌巨头尼康和佳能。尤其是ASML,几乎垄断了高端光刻机市场,也是全球唯一能供应EUV光刻机的厂家。

然而,由于产线上含有大量美国配件和技术,在老美的干预下,ASML一直无法向大陆市场出货EUV光刻机,只能供应DUV等应用于28nm成熟工艺芯片的中低端设备机型。

在这种情况下,国内市场选择“两条腿”走路,在研发高端光刻机的同时,大力发展成熟工艺芯片产业。数据显示,2022年中企累计砍单进口芯片的数量达到了960亿颗,进口率下降了将近15个百分点。

之所以出现这种情况,并非是国内对芯片的需求下降,而是国产芯片的自给率在不断提高,因为很多中企在目睹了华为的遭遇后,都有意把成熟可控的芯片放在本土,不再一味的从美企手里购买芯片。

可没想到的是,在国产芯片爬坡破冰的关键阶段,刚进入2023年,美媒就传出消息,称美国联合日、荷制定了一项禁止向中国出口半导体设备的新协定。一旦该协定正式生效,不只EUV光刻机,国内市场接下来可能连DUV光刻机都买不到了。

事实证明,美帝主义忘我之心未死。它此次联合日、荷在光刻设备方面大做文章的主要目的,就是想彻底堵死中国半导体芯片产业的发展之路,让中企连成熟工艺芯片也无法生产,从而继续依赖美芯。

在西方媒体眼中,光刻机的研发难度不亚于“原子D”,被誉为是人类智慧的结晶,它所用到的精密元器件数以万计,且糅合其他很多国家的顶尖科技,中国仅凭一己之力很难造得出来。就连ASML都曾公开表示,就算是把光刻机图纸给中国也没有用。

但正如比亚迪王传福所说,再尖端的设备也是人造的,而非神造的。对于国产光刻机的研发和应用,上海微电子、长春光机所等企业机构早已是“摩拳擦掌”。

继上海微电子后,又一中企光刻机投入市场
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继上海微电子后,又一中企光刻机投入市场

就在近日,国内市场传出了两条重磅消息,估计美、荷都没料到一切会来得这么快,完全低估了中企的实力。

首先,由上海微电子自主研发的首台金凸块封测光刻机(SMEE)正式交付,采购方是深圳同兴达科技公司,价格为1800万元。

其次,大族激光正式宣布,公司推出的接近式光刻机已经投入使用,步进式光刻机也进入了用户优化阶段,接下来的研发计划将根据市场需求和业务发展的实际情况而定,持续推动核心部件的国产化进程。

对于现阶段的国产半导体而言,这些光刻机的落地有着重大意义,无论是5G基站的分立器件领域,或者LED等智能电子领域,国内市场都基本搭建出了完善的设备、材料和技术产业体系,为一举打破西方封锁奠底了坚实的基础。

不可否认,国产光刻机的整体水平与ASML的设备相比还有着很大的差距,但正所谓“不积跬步无以至千里”,如今国内光刻市场已填补空白,迈出了关键性的一步,后续的技术设备强化,只是不太久的时间问题。

何况,在高端光刻机的研发方面,中科院、华为、国望光学等顶尖机构企业,近些年在光源、光学镜头等技术领域已有不少关键技术专利的积累。另外,有消息称上海微电子的28mm光刻机也有望在年内落地。

因此,只要我们坚持自主研发,不再对外抱有不切实际的幻想,脚踏实地的专注核心技术突破,相信有朝一日必然能把主动权掌握在自己手里。对此,你们怎么看?