2023年半导体行业寒意沁胸，但在自主可控的大趋势下，半导体设备和材料业绩逆势增长，作为国内领先的半导体化学品企业，上海新阳一季报业绩逆势增长514%，公司有哪些核心竞争力？未来的成长空间又如何呢？

（1）公司深耕半导体材料领域20多年，具有一定的技术优势。

上海新阳是国内唯一能够满足芯片90-14纳米铜制程全部技术节点对电镀、清洗产品要求的本土企业，公司电子电镀和电子清洗技术拥有完整自主可控知识产权，为我国芯片制造铜互连工艺填补了国产材料的空白，实现了国产替代和自主供应能力，一举突破了国外企业在这一领域的垄断。

（2）市场竞争力强

公司持续加强技术研发，半导体业务研发投入年均复合增长率近 30%，在传统封装引线脚表面处理化学品领域取得了行业领先地位，另外公司晶圆制程用清洗液、蚀刻液等业务也在加速发展，拥有完整自主可控知识产权的光刻胶产品与应用即将形成公司的第三大核心技术，公司形成清洗液、刻蚀液、电镀液及添加剂、光刻胶、研磨液等化学品材料系列产品，将增强公司在半导体材料领域的市场竞争力，在国内半导体功能性化学材料领域的地位将更加稳固。

（3）产品规模加速放量

2022年公司化学品产出 1.18万吨，近年来公司积极扩大产能，为把握国产替代机遇，加速推进合肥基地一期、二期合计7万吨电子化学品，一期已在设备安装调试阶段，2022年也启动上海化学工业区基地3.05万吨电子化学品产能建设，该项目主要用于开发光刻胶及配套材料产业化建设。随着公司在半导体业务产能方面布局的持续完善，公司产品数量不断增加，产能规模的不断放量，能够满足未来客户产能增长的需求。

（4）光刻胶即将获得突破

半导体产业是经济高质量发展的关键产业，在自主可控的大趋势性，光刻胶等领域国产替代前期向好，公司光刻胶产品也获得小批量订单。全球半导体光刻胶市场基本被日企垄断，为打破垄断，我国企业不断突破，上海新阳拥有一台ASML1900型光刻机用以研发28nm高端光刻胶，为突破光刻胶技术提供了必要的条件，公司I线、KrF光刻胶已经在超 10 家客户端提供样品进行测试验证，并取得了部分样品的订单，通过测试验证；ArF浸没式光刻胶的研发进展也比较顺利，研发成功后，将实现国内高端光刻胶产品的自主供货，填补国内技术空白。国联证券发布的研报认为，“从公司的人员配置、专家团队等角度看，公司的晶圆级光刻胶业务很有可能后发先至”。

上海新阳持续增加的研发投入，不断增加半导体功能材料的数量和产能，公司成立以来，一直致力于为用户提供化学材料、配套设备、应用工艺和现场服务一体化的整体解决方案，公司有望受益于我国半导体产业的发展壮大，同时公司受益于国产替代，经营可实现逆增长，跨越经济周期。