美国无法阻止中国大陆公司在先进制程芯片技术方面取得进步，中国应该能够利用现有设备继续推进到下一代的5nm制程工艺。

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近日，据彭博社报道，早已退休的“浸润式光刻机之父”、台积电前研发副总林本坚(Burn J. Lin)，在接受采访时罕见地表示，美国无法阻止中国大陆公司在先进制程芯片技术方面取得进步，并表示中国应该能够利用现有设备继续推进到下一代的5nm制程工艺。

一向与大陆少有往来也很少发表相关评论的林本坚，这一发言让外媒也感到惊讶。

01 林本坚：美国试图限制大陆进步是徒劳的

此前，华为麒麟9000S芯片在8月底的初次曝光，让全球都见证了，在美西方的技术“脱钩”形势下，大陆依然逆风而行，取得了如此巨大的突破，这令整个业界都感到震惊，让国人皆为之振奋。

9月13日，外媒就曾报道称，林本坚在美国哈佛大学活动上表示，美国出口管制刺激中国大陆推动科技自主，华为最新手机就是例证。

林本坚在哈佛大学活动上发表演讲，提倡芯片和平，认为围堵不是最佳方式

10月17日，美国政府再次收紧了对华半导体出口限制，对此，林本坚表示，尽管美国通过制裁施加技术限制阻止中国半导体进步，但中国厂商通过开发第二代7纳米级制造工艺，展现了显著的韧性和独创性。它还实现了足够高的产量，足以让华为制定供应7000万部智能手机的计划。

他还说道：“美国真正应该做的是专注于保持其芯片设计领先地位，而不是试图限制中国大陆的进步，这是徒劳的且将损害全球经济，因为中国大陆正在采取全面战略来发展其芯片产业。”

另外，林本坚还分析道，除了努力达到5nm里程碑之外，中国大陆可能还会尝试新材料或先进芯片封装，以制造更强大的半导体。

这与Arm CEO雷内·哈斯（Rene Haas）的言论一致。在美国升级出口管制措施后，Rene Haas曾表示，美国切断中国大陆获得精密半导体的目标将很难通过出口管制来实现。

02 外界开始重新认识大陆半导体

从2018年中美芯片战拉开帷幕至今，这场“没有硝烟的战争”已历时五年，业界对中国大陆的芯片发展也曾不乏悲观的声音。但随着今年8月底华为Mate 60系列手机的问世，一切似乎都在悄然发生变化。

无论是西方政客，还是业界技术专家，亦或是全球半导体巨头的CEO们，都在逐渐改变过去傲慢态度，开始承认中国大陆的技术实力。包括台积电创始人张忠谋，从此前支持美国对大陆半导体限制政策，到后来认为“对于美国对华半导体限制政策，美国公司将失去更多中国客户，而中国也将找到反击的方法”。

作为“浸润式光刻机之父”，林本坚对光刻机的技术研发有着深刻认识，他在半导体领域颇具影响力，因此，他的言论也让外界开始重新认识中国大陆芯片产业。

林本坚是中国台湾人，1942年出生在越南，祖籍广东潮汕。在众所周知的垄断了全球EUV光刻机的ASML背后，离不开他所提出的浸润式光刻技术。

出于对物理的喜爱以及工作机会的思量，林本坚在报考台湾大学时选择了电机系，进而与电磁波结缘（所有的光都是电磁波）。1963年，他从台湾大学电机工程学系毕业后，前往美国俄亥俄州立大学电机工程学系进行深造，1970年获得博士学位。

他职业生涯早期供职于IBM，2000年回到中国台湾，加入台积电。之后他一直在台积电从事研发工作，期间担任了资深处长和副总经理的职位，直到2015年从台积电退休。2016年起，他担任台湾清华大学特聘研究讲座教授。

张忠谋曾评价道：假如没有林本坚及其团队，台积电的微影（半导体关键制程之一）不会有今天这规模。

林本坚在台积电取得了一系列突破性的创新，他发明的浸润式光刻方法，对集成电路的生产带来了颠覆性的改变，摩尔定律也因此得以延续。

此前，他在IBM工作期间就做出了当时光刻领域最短波长的光线，他自己把它命名为深紫外线（DEEP Ultra-Violet，简称DUV）。

但到了20世纪90年代末期，市面上的光刻机波长停留在193nm，当时全球光刻机巨头都在专注于157纳米波长技术，却难以突破这一瓶颈。

这时候，林本坚想到，能否在镜头和晶圆之间加入其它介质代替空气，从而实现更短的波长？

之后他提出用水代替空气作为介质，改变波长。根据林本坚的推算，193nm的波长经过水的折射之后，是可以达到134nm的。

浸润式光刻原理：水的介质折射率是1.44，因此193nm/1.44≈134nm

他将这种技术，称之为浸润式微影技术，也就是现在EUV光刻机所用到的技术。

当时，其它厂家仍在坚持干式光刻机技术，只有ASML孤注一掷，将筹码都压在了林本坚提出的“浸润式”光刻技术上。

ASML这一大胆的选择被证明是极其明智的。浸润式光刻的成功，让ASML一举击退当时的劲敌尼康，自此坐上了光刻机龙头老大的位置。

而台积电，也凭借林本坚的技术和ASML的设备，成为晶圆代工界老大哥，占据OEM市场60%的份额，稳坐霸主地位。

张忠谋曾多次 高度评价林本坚，甚至在林本坚退休时表示，若没有林本坚，许多技术难题台积电都难以克服。

林本坚（左一）与蒋尚义（左三）、梁孟松（右二）等人并称台积电研发六骑士

目前，林本坚担任台湾清华大学特聘研究讲座教授。他曾在一次媒体采访中发表了对中国大陆芯片发展的看法：

我觉得大陆这边是有很多很好的先天条件。第一就是有市场、有机会，只要你做得好，有机会做很多芯片，有量。然后是有人，有很多人才，有好多学校，这些都有了。但是你怎么样让他们觉得半导体很重要，因为现在年轻人都要做很多别的事情，这些都是要去努力的。

因此在林本坚看来，中国大陆在机会与人才方面都已具备足够优秀的条件，接下来就是让年轻人重视半导体，并为之做出努力。

林本坚对中国半导体的肯定，也使得外界的质疑声逐渐减弱。我们也可以更加坚定地相信，假以时日，中国大陆半导体终将实现技术自主，不畏封锁。

参考资料：

彭博社：US Can’t Halt SMIC, Huawei’s Tech Advances, Chip Guru Says

大漠过千里： 他是光刻机领域的华裔技术专家，但是从来不跟中国大陆有任何来往

数位时代：美国限制晶片，反倒刺激中国变更强！林本坚提倡“和平说”，围堵非最佳方式

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