随着科学技术的发展，如何增强牢固性、可靠性，为了提高光学元件在涂层前的清洁度，等离子体清洗是指利用气体放电在真空环境中产生等离子体，同时在基体上施加负偏压，为等离子体提供轰击能量，轰击基体表面，达到去除污染物的目的。等离子体轰击不仅可以去除表面污染物，还是薄膜涂覆前有效过程，使后续涂层透镜表面具有较强的亲水性能。
等离子清洗机轰击材料表面过程中的影响如下：
(1)溅射清洗，进入射离子轰击材料表面，冲击去除表面吸附的气体分子和污染物。

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(2)如果冲击离子传递给晶格原子的能量超过原子的离位阀，则晶格原子可以离位到间隙位置并形成点缺陷。
(3)晶体破坏，如果离子轰击产生稳定性缺陷，表面结构将由晶体结构转变为非晶体结构。
(4)改变表面形状，对材料表面，表面的离子轰击会改变表面形状，改变材料表面的粗糙度。

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经等离子清洗处理过后，随着表面附着力的提高，涂层等离子体清洗是一种表面处理技术，可以通过气相反应对物体表面进行清洗。在处理过程中，物体被放置在低压等离子体中，表面的污垢、氧化物、有机化合物等杂质可以通过化学反应和物理效应去除。

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等离子清洗可用于汽车电子，硅橡胶，玻璃等多种材料的清洗，等离子技术的特点是不会损坏物体表面，并能加速表面反应和清洁效率。