众所周知，目前的芯片制造，基本上是基于光刻工艺，所以必须用到光刻机。

而光刻机与芯片工艺制程对应，如下力所示，比如G线、i线对应的是350nm及以上的芯片工艺，而KrF对应的是350-130nm。

ArF对应的是130-65nm；而ArFi是ArF的改进版，也称之为浸润式DUV光刻机，对应的是65-7nm；EUV是极紫外线光刻机，对应的是7nm以下。

目前，全球的光刻机市场，主要被荷兰的ASML垄断，ASML一家就占了全球90%的份额。其中先进的ArFi光刻机，ASML占了95%，EUV光刻机，ASML占了100%。

日本的尼康、佳能更多的只是ArF、KrF这些较为成熟的光刻机，佳能没有ArFi光刻机，尼康没有EUV光刻机，而ArFi光刻机，也非常少，主要市场还是ASML的。

而中国上海的微电子，水平还在ArF，工艺制程在90nm，所以国内一直以来就是大量采购ASML的光刻机。

美国之前是不允许ASML的EUV光刻机卖到中国大陆来，所以至今为止，中国大陆的晶圆厂，都没有EUV光刻机。

后来，美国更想锁死中国大陆的逻辑芯片工艺在14nm，于是又联手日本、荷兰，对光刻机进一步限制。

其中日本表示所有的浸润式光刻机，都不能出口到中国。而荷兰的ASML则表示，所有的浸润式光刻机中，只有一台NXT:1985Di能出口。

后来在2023年10月份，美国禁令再次升级，ASML唯一一台能够出口的NXT:1985Di也被禁了，无法再出口到中国大陆来了。

不过ASML也称，2023年他们还是拿到了许可证，所以2024年内，所有的浸润式光刻机都能够卖到中国大陆来，但2024年开始，就不行了，所以目前ASML的浸润式DUV光刻机，EUV光刻机，正式断供了。

所以我们看到，2023年内，中国大陆在大量的从ASML进口光刻机，数据显示，1-11月份，中国大陆向ASML进口的光刻机金额已经超过了500亿元，是2022年的3倍左右。

很明显，中国大陆在趁着ASML还能出口浸润式光刻机，疯狂大采购，疯狂囤货，毕竟2024年开始，浸润式光刻机就买不到了。

按照业内人士的预测，今年从ASML采购的光刻机，理论上能够支撑国内3年左右的晶圆扩产需求，但3年之后，甚至也可能不需要3年，可能就会又缺光刻机了，特别是缺尖端光刻机了，比如ArFi、EUV这两种。

所以接下来，国产芯片想要突破，就需要国产光刻机突破了，因为ASML短时间之内，是拿不到出口许可证的，浸润式ArFi光刻机、EUV光刻机应该只能靠我们自己，不要想着进口了。