联想申请金属壳体制作方法专利,金属壳体的第一面呈现第一纹理层具有的纹理效果
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金融界2024年2月23日消息,据国家知识产权局公告,联想(北京)有限公司申请一项名为“一种金属壳体的制作方法及电子设备“,公开号CN117584660A,申请日期为2023年10月。
专利摘要显示,本申请实施例公开了一种金属壳体的制作方法及电子设备,涉及电子设备技术领域。本申请的金属壳体的制作方法包括:获取待处理金属基板;获取待处理膜片基板,并通过微纳加工方式在待处理膜片基板上形成具有微纳纹理结构的第一纹理层;将第一纹理层通过转印技术转印在待处理金属基板的第一面上,以使待处理金属基板的第一面呈现第一纹理层具有的纹理效果。
本文源自金融界
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