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3月30日，积塔半导体在上海临港举行300mm车规半导体集成电路制造基地设备入场开工仪式，ASML光刻机入场。

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光刻机是芯片制程中的核心设备，利用特殊的光学技术将电子信息传输到芯片上，其制程精度直接影响着芯片的性能和质量。荷兰ASML公司是全球光刻机制造领域的翘楚，以其卓越的技术实力和领先的产品性能，稳居行业的领先地位。

光刻机的种类可以分为I-line、KrF、ArF干法、ArF浸没式和EUV，其中EUV最为先进。从ASML的型号来看，I-line光刻机的主要型号是XP 400/450系列，对应制程在300~500nm；KrF光刻机的型号为XT860/1060，对应的制程在180~130nm；ArF干法光刻机的型号为XT1400/1460/1700，对应制程节点130~65nm左右；ArF浸没式光刻机型号包括XT1900以及NXT系列，其中NXT又分为比较成熟的NXT1950/1965/1970/1980以及相对先进的NXT2000/2050/2100，对应制程在45nm以下左右。EUV光刻机的主要型号是NXE3400/3600，对应7nm以下。

此次积塔半导体12英寸车规半导体生产基地入场的光刻机或为干式DUV光刻系统I-line、ArF系列。TWINSCAN XT:400L是ASML最新的i-line系统，分辨率低至220nm，适用于200mm和300mm晶圆生产；TWINSCAN NXT:1470双级ArF系统，可以打印分辨率低至220nm的图案，被大多数逻辑和存储器客户所采用，并已被插入到大批量制造工艺中，用于200mm和300mm晶圆生产，实现每小时330个晶圆的生产率。

积塔半导体于2017年在上海临港注册成立，专注于半导体集成电路芯片特色工艺的研发和生产制造，已建成具有自主知识产权的电源管理芯片（ PMIC ）、控制器（Controller）、功率器件（IGBT、SGT、FRD、TVS等）、碳化硅器件（JBS、MOSFET）、微机电系统（MEMS）等特色工艺平台，产品广泛服务于汽车电子、工业控制、电源管理、智能终端，乃至轨道交通、智能电网等高端应用市场。