芯片对于现代科技的重要性是毋庸置疑的，在芯片制造过程当中，光刻机、蚀刻机、离子注入机以及镀膜机则被称为核心设备，其中最重要的应当要属于光刻机了。甚至可以说如果没有先进光刻机的支持，那么就很难制造出先进的高质量芯片。

在全球范围之内，能够生产并且出货EUV光刻机的只有荷兰的ASML，想要生产7nm及以下制程的先进芯片又很难离开EUV光刻机的支持。不过让人没有想到的是，从目前传出的消息来看，EUV光刻机的搅局者出现了，将在今年量产5nm制程设备，在2026年完成2nm制程设备生产。

EUV光刻机又被成为极紫外线光光刻机，其核心就是通过极紫外线光来实现高密度的芯片生产，以此来达到降低芯片生产成本和功耗的难题。可是想要生产出EUV光刻机可以说十分困难，拥有着极高的技术门槛不说，还需要大量零部件的支持。

哪怕是普通的光刻机，目前基本上也只有荷兰的ASML以及日本的尼康、佳能还有我们的上海微电子能够生产制造出来。ASML也是凭借着独家的EUV光刻机拿下了全球大量的市场份额。

不过让人没有想到的是，虽然在EUV光刻机方面受限于极紫外光技术以及零部件供应链没能完成突破，但是佳能却从另一个角度完成了生产先进芯片的设备突破。

从佳能前不久公开的消息来看，其研发了是十年左右之久的纳米压印半导体设备完成了突破。这种设备能够在特殊的半导体材料上调查纳米电路的图案，之后再将通过这种特殊的半导体材料将图案压印在晶圆之上。

与普通的EUV光刻机不同，这种纳米压印设备并没有从光源方面入手，而是通过高精度的机械复制来完成芯片电路图案的雕刻。这也意味着相关工艺对于工作环境的要求十分苛刻，审核一点微小的污染都有可能导致工艺的应用失败。

虽然在使用方面要求比较高，但是这种纳米压印设备也有着十分出色的优势，那就是生产成本和使用成本极低，从佳能公开的消息来看，基本上只有同制程的EUV光刻机设备十分之一左右。

如今随着技术的发展，EUV光刻机设备的价格也在持续增长当中，最新的NA EUV光刻机的售价甚至达到了20亿美元左右。这也导致很多芯片代工企业其实很难承受这么高的成本价格。在这方面具有优势的佳能纳米压印设备，很有可能受到一些规模较小的芯片代工企业欢迎。

值得关注的一点是，从佳能目前公开的消息来看，这种纳米压印设备已经完成了5nm制程的突破，预计将在今年实现5nm设备的量产，并且预计将在2026年的时候完成2nm制程的突破。

事实上，早在2017年的时候，佳能就将纳米压印技术使用到了15nm制程的闪存器上，只不过当时这种设备还并不成熟，所以使用的并不算多。

毫无疑问，纳米压印设备已经完成了“突围”，接下来ASML估计要开始头疼了。

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