全球最大的半导体设备制造商阿斯麦ASML周一表示，已与比利时芯片研究公司 Imec联合开设了一个高数值孔径 EUV 光刻设备测试实验室。

该实验室位于荷兰费尔德霍芬，经过多年建设，将为领先的芯片制造商和其他设备和材料供应公司提供早期使用这种价值 3.5 亿欧元的工具的机会，这是同类产品中的首个。ASML 在光刻设备市场占据主导地位，光刻设备是芯片制造过程中的核心步骤，在此过程中使用光束来创建芯片的电路。

在芯片制造商中，只有台积电、三星、英特尔以及内存专家 SK 海力士和三星能够使用 ASML 当前一代极紫外或 EUV 机器进行制造，而新的高NA工具可将分辨率提高60％，有望带来新一代更小、更快的芯片。

ASML 周一表示，预计客户将在 2025 年至 2026 年开始使用该工具进行商业制造，迄今为止，ASML 仅向美国英特尔出货了另一台测试机器，英特尔计划在 2025 年的 14A 工艺中使用该设备。ASML 的订单已超过十几台，但其 EUV 设备的最大客户台积电表示，其 A16 芯片不需要使用高 NA 工具，预计 2025 年投入生产。