证券之星消息,根据企查查数据显示天合光能(688599)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“水冷屏及单晶炉”,专利申请号为CN202322753764.5,授权日为2024年6月25日。

专利摘要:本实用新型涉及一种水冷屏单晶炉,水冷屏包括水冷屏本体、第一进液管、第一出液管和热交换机构,水冷屏本体构造有用于冷却液流通的夹层空间,以及与夹层空间相连通的第一进液口和第一出液口;第一进液管与第一进液口相连,用于流通冷却液;第一出液管与第一出液口相连,以供冷却液流出;第一进液管流经热交换机构,热交换机构能够与第一进液管内的冷却液进行热交换,以对冷却液降温。通过如上结构,使得流入水冷屏本体的夹层空间内的冷却液的温度更低,从而使得水冷屏本体为单晶硅提供的热场的温度更低,从而提高了水冷屏本体的换热速率,进而加速了晶棒的冷却速率,以提升单晶硅的生长速率,提高了晶棒成晶率,进而提高生产效率。

今年以来天合光能新获得专利授权238个,较去年同期增加了186.75%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了15.43亿元,同比增26.42%。

数据来源:企查查

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