声明：本文内容均是根据权威资料，结合个人观点撰写的原创内容，文中标注文献来源及截图，请知悉。
前言
这芯片危机过去这么长时间了，面对美国对中国做出的一系列限制，我方虽然更占理，但是人家脸皮厚啊，人家可不管谁愿不愿意，自己先达到目的才是最重要的。
不过这次荷兰又加紧束缚以后，中国终于从实际行动开始反击他们了，直接宣布了两条光刻机领域的好消息，这次也算是扬眉吐气了，总是要给他们点颜色看看。
但是光刻机在芯片制作过程中是最难，最复杂的一步，就连美国现在也得依靠着荷兰，之前朱教授还曾经分析过这东西有多难，难道中国现在这就要做出来了吗？这两个好消息又会是什么呢？
美国压力下荷兰“捆紧”阿斯麦光刻机，日韩也正步步受压
早在几年前，美国就瞄准了荷兰的光刻机，因为他们知道，目前只有荷兰掌握了这一门技术，而且这也是集了几十个国家的大成才有的产物，中国短时间内绝对做不出来。
那时候荷兰还看重中国的消费市场，当时中国企业下的订单可是占了阿斯麦的20%，有钱人谁都想巴结，而且他们已经看到了英伟达他们放弃中国市场公司损失了多少。
不过胳膊还是拧不过大腿，再怎么说美国的话还是得听，人家说这会威胁到国家安全那就是会，但是就连阿斯麦的老板也说“要证实此事关乎国家安全已经越来越难了”。
真相是什么样的，大家其实都知道，只是不愿意捅破罢了，不过这算是一种意识形态上的战争，人家并没有明着说对我们干什么。
信息来源：澎湃新闻 2024-09-14美国压力下荷兰“捆紧”阿斯麦光刻机，日韩也正步步受压
今年的9月6号，荷兰的领导终于还是承受不住压力了，阿斯麦公司现在要想向中国出售1970i和1980i型号浸润式DUV光刻系统的光刻机必须要先经过政府的同意。
而这两种其实还不算是最先进的机器，更加先进的是极紫外光刻机，不过在此之前，这种先进设备人家早就不允许卖给中国了。
那日本和韩国就更不用说了，人家两个一直始终坚持听着大哥的话，不过有一句话说得好，没有永远的铁关系，永恒的除了钻石就只有利益。
日本和韩国当然也不傻，当年跟着美国屁股后面为首侍从的不就是因为美国有钱吗，一直跟着，说不定人家什么时候心情好了，还能卖个先进的战斗机给他们用用。
现在中国市场越来越大，日本和韩国再想赚钱他们也不敢违背美国，只能一点一点缩小限制，去年日本已经有23种半导体制造设备都不好好卖给中国了，今年四月，他们又新加了四种半导体量子相关的高性能芯片。
不过还好，为了解决这个问题，中国领导早就想好了对策，今年上半年光是在这方面的投资就有250亿美元，这还只是从国外进口的花销，中国自己的研究投入更是庞大。
我国国产 DUV 光刻机迎来里程碑式进步，套刻≤8nm
现在市面上的光刻机已经发展了五代，前两代还是接入式的光刻机，再往后发展才有了后面第二代和第三代的扫描投影式和浸入步进式设备。
不过现在市场上流通最广的已经是最新的极紫外线式的光刻机了，这种光刻机不光光学分辨率得到了提高，就连速度还有质量也非常精确，达到了非常高的水准。
信息来源：金融界2024-09-15喜大普奔！国产高端DUV光刻机突然官宣！节后抢筹概念股？
衡量光刻机水平最重要的三点第一个就是光学分辨率，其次就是套刻的精确度还有产量的多少，如果在达到一定标准的同时，还能最大限度提高产能，这才是光刻机发展的最终目标。
而9月9号，中国相关专业部门发出了一个可喜可贺的消息，他们公布了首台关于重大技术装备推广引用的设备，其中就包括两种光刻机型号，一种是氟化氪光刻机，另外一种就是氟化氩光刻机，而其中配置最高的就是氟化氢这个型号。
这次这个公告发明的意图就是说明这些技术已经通过审查，马上就可以通过量产，实际应用起来，对中国的光刻机产业将会是一个前所未有的极大进步。
比较先进的这款氟化氩光刻机的套刻精确度更是达到了小于等于8NM，分辨率也达到了小于等于68NM。而这一切能不能成功面见市场还得看上海的一个公司。
从23年开始，他们就已经在做第二代的光科技研发了，而且他们还曾经自己完成过国内首台氟化氩光科技的研究，这次的第二个好消息就是他们又成功拿到了最先进光刻机的发明专利。
上海微电子公开“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利
9月10日，上海微电子公司公布了这个好消息，他们表示从23年3月9日，他们开始申请第五代光刻机的研究申请，直到今年他们的申请终于通过了。
这项专利不光设计极紫外线辐射发生的原理装置，还有这种设备在光刻机上的应用，他们给大家展示了这种设备得到应用的全套流程，而中国目前已经研究出了低于八纳米的光刻机。
如果这种设备能够得到应用就代表这种新型极紫外线光刻机也指日可待，不过数据显示，中国目前做出的这种设备，阿斯麦早在15年前就已经做出来了。
不过大家也不需要气馁，因为荷兰他们也是根据别人的技术一点一点做出来的，毕竟他们才是第一个，站在巨人的肩膀上做事，比成为这个巨人要简单很多。
所以既然这种技术已经成功做出来了，对比之前的氟化氩光刻机面世的进度，当时20年研究出来的这种技术，到现在也就四年多的时间，所以假以时日，中国一定能做出自己的最先进的光刻机。
结语
虽然现在中国研发出来的光刻机水平还赶不上荷兰，但是相比之前，终于已经迈出了一大步，相信在不远的未来，中国再也不需要为这种事担心，自己就能满足自己的需求。
热门跟贴