众所周知，在如今这个时代，芯片被誉为现代工业的“粮食”，上到战机、卫星和航母，下到手机、电脑和门禁卡等电子设备，都要用到芯片；而作为制造芯片的核心设备，光刻机也被誉为半导体皇冠上的“明珠”，它们都是全球各国都重视的产业。可以毫不夸张的说，谁要是能够掌握最先进的芯片、光刻机技术，谁就能主导未来科技的发展方向。
就以美方为例，作为半导体的发源地，美方科学家率先发明了晶体管和集成电路，手里掌握了大量的半导体技术和专利，并且这些年早已渗透进了全球半导体产业链的方方面面，不管是芯片代工巨头台积电、三星，还是光刻机巨头ASML、尼康和佳能，或多或少都使用了美国技术和零部件，所以都不敢正面“得罪”美方，这些年都只能对美方“言听计从”！
也正是因为如此，为了彻底击倒华为，美方直接修改了半导体供应规则，要求台积电停止给华为代工麒麟芯，并且还拉拢日本、荷兰签订了三方协议，不准ASML、尼康和佳能出售高端光刻机给中企，制程范围甚至还上调到了45nm，可以说丝毫没有留余地。虽然从去年年底到今年上半年，由于大陆市场的光刻机需求量庞大，ASML已经无视美方限制，累计向大陆市场出口了约数百台光刻机了，但就在前不久，ASML又陆续宣布了两个决定：一是无法继续向大陆出售1980i等型号的DUV光刻机，二则是将停止部分DUV光刻机的售后服务！
要知道，我们现在使用的几乎全都是ASML的光刻机，一旦ASML停止给我们提供售后服务，那么这对我们的芯片行业来说绝对是一个“重击”。虽然ASML表示是受到了美方的施压才做出如此决定，但让ASML做梦也没有想到的是，刚刚宣布停止光刻机售后服务不久，我国光刻机行业就传来了一个好消息。根据人民网9月15日报道，为了促进首台（套）重大技术装备的推广和应用，工信部突然公布和印发了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录》，其中氟化氩光刻机赫然在列！
从目录中我们可以看到，目前我们的氟化氩光刻机的套刻精度已经达到了8nm以下，分辨率也达到了65nm以下，而且该光刻机是Arf光刻机，也就是所谓的DUV光刻机，也就是说我们国内首台DUV光刻机已经成功面世了！虽然从参数来看，该光刻机的单次曝光能够达到65nm制程左右，进行多重曝光后也能达到28nm制程的样子，相当于ASML于2015年出货的TWINSCANXT：1460的光刻机水平，但这也意味着我们在哦DUV光刻机领域已经取得了阶段性的突破！
要知道在十多年前，我们有85%的光刻机和芯片都来自进口，尤其是在光刻机领域，几乎被荷兰的ASML和日本的尼康、佳能垄断。但随着国产DUV光刻机的横空出世，我们在高端光刻机领域的空白正在被慢慢填补，只要我们将精度突破到真正的8nm制程，那么以后将彻底摆脱对ASML的依赖，国产芯片也将实现自给自足！对此就连外媒都纷纷表示：ASML这次要彻底“破防”了！
还记得曾经我们去ASML公司参观的时候，当时ASML高管还嘲讽我们，表示就算是把图纸给我们，也造不出光刻机！如今才过去十多年，我们不仅造出了光刻机，还研制出了DUV光刻机，可以说狠狠地打脸了ASML。而工信部这次之所以要大力推广光刻机这项重要技术，个人觉得不外乎两个原因：一是给国内芯片行业更多的动力和底气，二则是要加快我们光刻机的发展进程，摆脱对ASML的依赖。
正所谓天狂必有雨，人狂必有祸，三十年河东三十年河西！美方以为利用科技霸权打压华为等中企、给台积电和ASML施压就能够全面限制我们芯片的发展，但从目前的趋势来看，美方的“奸计”显然无法得逞了，反而将迎来严重的“反噬”。如今华为麒麟芯已经找到代工厂代工，强势回归，国产光刻机行业也迎来了重大突破，相信要不了几年我们就能彻底打破层层封锁，国产芯片和国产光刻机也必将强势崛起！认可的请点赞！
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