金融界2024年9月25日消息，国家知识产权局信息显示，杭州富芯半导体有限公司取得一项名为“光刻胶喷嘴结晶清除装置”的专利，授权公告号 CN 221753727 U，申请日期为 2023 年 12 月。

专利摘要显示，本申请提供一种光刻胶喷嘴结晶清除装置，其包括移动机构、清洗槽、清洗剂喷洒模块和清洗剂雾化模块。移动组件使光刻胶喷嘴在工作位置和清洗位置之间移动，清洗槽置于清洗位置，当光刻胶喷嘴移动至清洗位置时，在清洗槽清除所述光刻胶结晶。洗剂喷洒模块包括第一液态清洗剂组件和设置于清洗槽中且连通于第一液态清洗剂组件的液态清洗剂喷嘴。清洗剂雾化模块包括第二液态清洗剂组件和设置于清洗槽中且连通于第二液态清洗剂组件的雾化清洗剂喷嘴。第一液态清洗剂组件控制液态的清洗剂经过液态清洗剂喷嘴喷洒至光刻胶喷嘴，第二液态清洗剂组件控制液态的清洗剂经过雾化清洗剂喷嘴形成雾化的清洗剂后进入清洗槽的密闭空间。

本文源自：金融界

作者：情报员