金融界2024年10月25日消息，国家知识产权局信息显示，大立光电股份有限公司取得一项名为“成像镜头与电子装置”的专利，授权公告号CN 221860734 U，申请日期为2024年2月。

专利摘要显示，一种成像镜头与电子装置。成像镜头包含一光学元件。光学元件包含一基板、一纳米结构层及一中介层。基板为透光材料。纳米结构层设置于基板的一表面上，纳米结构层的主要成分为氧化铝，其中纳米结构层具有朝非定向延伸的多个脊状凸起，各脊状凸起的一底部较一顶 部靠近基板，且各脊状凸起自底部向顶部渐缩。中介层设置于基板与纳米结构层之间，且包含一第一薄膜及多个第二薄膜，其中第一薄膜的主要成分为二氧化硅，各第二薄膜的主要成分为二氧化硅，且第二薄膜与第一薄膜堆叠设置。借此，成像镜头可于严苛的环境下仍可维持正常性能表现。

本文源自：金融界

作者：情报员