金融界2024年10月26日消息，国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“用于改进底部净化气流均匀性的挡板实现”的专利，公开号CN 118814139 A，申请日期为2020年6月。

专利摘要显示，本公开内容总体 上涉及用于改进处理气体的 压力分布的方位角均匀性的 设备。在一个示例中，处理腔 室包括盖、侧壁、和基板支撑 件以界定处理体积。底部碗、 腔室基底、和壁界定净化体 积所述净化体积设置于所述处理体积下方所述底部碗包括 第一表面，所述第一表面具有第一等化器孔。通路经由所述第 一等化器孔及入口将所述处理体积耦合至所述净化体积。所述 通路位于所述第一等化器孔上方。所述腔室基底具有净化端 口，所述净化端口可耦合至净化气体线以用于供应净化气体至 所述净化体积。挡板在所述净化端口上方的一高度处设置于所 述净化体积中，且经配置以偏转净化气体的轨迹。

本文源自：金融界

作者：情报员