金融界2024年10月31日消息，国家知识产权局信息显示，苏州光舵微纳科技股份有限公司申请一项名为“用于纳米压印的复合结构模板及其制备方法”的专利，公开号CN 118838113 A，申请日期为2024年7月。

专利摘要显示，本发明公开一种用于纳米压印的复合结构模板及其制备方法，复合结构模板包括：压印软膜以及嵌入在压印软膜内的骨架，骨架呈镂空状，骨架用于支撑压印软膜的自重，且能够在复合结构膜板受压力时，进行毫米级弯曲。本发明结构简单，其利用骨架增加压印软膜的整体刚性，消除中心下垂。在压印时，复合结构模板仍能保有曲率变形效果及传统压印软膜的紫外光透过效果，将压印软膜上的图形等均压方式压在基材上。

本文源自：金融界

作者：情报员