金融界2024年11月2日消息，国家知识产权局信息显示，上海盛剑半导体科技有限公司申请一项名为“废气处理设备”的专利，公开号CN 118882093 A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，本申请提供了一种废气处理设备，包括端盖，端盖设有废气入口和点火器；反应釜，反应釜连接于端盖的下方，反应釜包括多级反应腔体，多级反应腔体内限定出沿上下方向层叠设置且与废气入口连通的多级反应腔，每级反应腔体包括外腔体和内腔体，内腔体的上端部分伸入外腔体内以在外腔体与内腔体之间形成溢流槽，每级反应腔体均设有与对应反应腔连通的空气入口、进水口和排废口，空气入口朝向内腔体内吹气，进水口和排废口均与溢流槽连通，根据本申请实施例的废气处理设备能够使得废气反应更加充分，提高反应效率和除废效率，同时有利于粉尘的沉积排废和减少反应腔内壁堆积。

本文源自：金融界

作者：情报员