金融界2024年11月8日消息，国家知识产权局信息显示，协伟集成电路设备（上海）有限公司取得一项名为“一种用于安装高精密光刻机的基础座”的专利，授权公告号 CN 221960411 U，申请日期为2024年4月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种用于安装高精密光刻机的基础座，包括主机台基础座和附属机台基础座，所述主机台基础座包括主机台基础座本体，在主机台基础座本体顶面的前左、前右、后左、后右部位分别嵌设有一个 X 向激光定位配件，在 X 向激光定位配件的内侧右侧分别嵌设有一个 Y 向激光定位配件，在位于前左、后左部位的 X 向激光定位配件的外侧右侧分别嵌设有一个光栅尺定位配件，所述X 向激光定位配件上均设有沿 X 向延伸且左端大右端小的 X 向定位槽，所述Y 向激光定位配件上均设有沿 Y 向延伸且前后两端小中间大的 Y 向定位槽。本实用新型提供的基础座，不仅可满足高精密光刻机的精密安装定位要求，而且结构简单、制作和使用方便。

本文源自：金融界

作者：情报员