金融界 2024 年 11 月 8 日消息，国家知识产权局信息显示，协伟集成电路设备（上海）有限公司取得一项名为“一种防微振等级可达 VC-D 级的光刻机基础座”的专利，授权公告号 CN 221960410 U，申请日期为 2024 年 4 月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种防微振等级可达 VC‑D 级的光刻机基础座，包括镭射基础座、主机台基础座和晶片夹持基础座，所述的主机台基础座包括混凝土钢构框架 A 和设于混凝土钢构框架 A 内部的钢筋网 A，所述的混凝土钢构框架 A 包括顶板 A 和多个竖向设置的支撑柱 A，多个支撑柱 A 并列、间隔设置于顶板 A 的底部，所述的钢筋网 A 包括水平钢筋网 A 和数量与支撑柱 A 数量相一致的竖向钢筋网 A，所述的水平钢筋网 A 水平设于顶板 A 的下方，所述的竖向钢筋网 A 竖向设置于对应支撑柱 A 内，且竖向钢筋网 A 的顶部与水平钢筋网 A 的底部焊接固定。本实用新型提供的光刻机基础座，防微振等级可达 VC‑D 级要求，具有结构简单、相对轻质、制作和使用方便等优点。

本文源自：金融界

作者：情报员