芯碁微装:采用精度更高的DMD和微透镜阵列升级,推动直写光刻技术以大幅提升产能效率
金融界
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金融界12月5日消息,有投资者在互动平台向芯碁微装提问:请问公司的光刻机设备,未来会达到14纳米的精度吗?
公司回答表示:公司是基于DMD(数字微镜器件)的直写光刻技术,DMD芯片的精度决定了产品精度,提升产品精度上首选方案是采用精度更高的DMD,目前市场能够量产的DMD最高精度在5.4μm,这种精度的产能已远超传统曝光机。如果要更精细的线宽,就要采用微透镜阵列(MLA)来升级,这种方式对于直写光刻技术升级和改造发展贡献会很大,量产后产能效率将大幅提升,产业应用范围将非常广阔。
本文源自:金融界
作者:公告君
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