金融界2024年12月9日消息,国家知识产权局信息显示,沈阳仪表科学研究院有限公司申请一项名为“基于不透明点阵的中性密度滤光片”的专利,公开号CN 119087568 A,申请日期为2024年10月。

专利摘要显示,本发明属于光学元件领域,尤其涉及一种基于不透明点阵的中性密度滤光片,包括透明基底,在所述透明基底上镀制或印制不透明点阵,通过减小通光面积实现对光信号的均衡衰减。方点三角形阵列满足:方点正方形阵列满足:圆点三角形阵列满足:圆点正方形阵列满足:其中,r为方点的边长;l为两方点之间的距离;T为透射率。本发明滤光片具有耐高温特性及高中性度,可减少通光面积,达到对光的均衡衰减效果,且可改变其透射率。

本文源自:金融界

作者:情报员