金融界2024年12月9日消息，国家知识产权局信息显示，浙江日久新材料科技有限公司申请一项名为“耐用性优的AR膜及其制备工艺”的专利，公开号CN 119087557 A，申请日期为2024年9月。

专利摘要显示，本发明公开了耐用性优的AR膜，其包括基材层，所述基材层上依次设有上涂布层、打底层、第一氧化铌层、二氧化硅层、第二氧化铌层、硅铝混合层和抗划伤层；其中，所述第一氧化铌层和二氧化硅层之间设有二氧化铪层或第二氧化铌层和硅铝混合层之间设有二氧化铪层；所述二氧化铪层的厚度为1～20nm。本发明中耐用性优的AR膜不仅具备优良的光学性能而且具有较高的硬度、耐磨性和耐高温性能，具有优良的耐用性。

本文源自：金融界

作者：情报员