金融界2024年12月9日消息，国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“快速量测局部关键尺寸均匀性的方法及系统”的专利，公开号CN 119090944 A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，本发明公开了一种快速量测局部关键尺寸均匀性的方法及系统，属于半导体技术领域，该快速量测局部关键尺寸均匀性的方法，包括以下步骤：拍摄目标区域的若干原始图像，所述原始图像中包括至少一类待量测图形的纵向形貌信息和顶层轮廓信息；提取所述原始图像的尺寸参数，并根据尺寸参数计算关键尺寸均匀性。通过对目标区域进行拍照提取待量测图形的尺寸参数，省去了常规量测时建立量测程式及量测时间，提高效率。

本文源自：金融界

作者：情报员