金融界2024年12月10日消息，国家知识产权局信息显示，浙江求是半导体设备有限公司取得一项名为“分流进气装置和外延工艺设备”的专利，授权公告号 CN 222119473 U，申请日期为2023年12月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种分流进气装置和应用该分流进气装置的外延工艺设备，所述分流进气装置包括进气罩、分流罩和分流板，所述进气罩内设有多个进气腔；所述分流罩内设有多个分流道多个所述分流道沿所述分流罩的宽度方向间隔布置，且多个所述分流道与多个所述进气腔一一对应地布置；所述分流板设于所述进气罩和所述分流罩之间，所述分流板设有多个分流孔，多个所述分流孔沿所述分流罩的宽度方向分为多个分流孔组，多个所述分流孔组与多个所述分流道一一对应地布置，每个所述分流孔组中的所述分流孔的数量与该分流孔组对应的所述分流道的横截面积呈正相关。本实用新型实施例的分流进气装置具有供气均匀的优点。

本文源自：金融界

作者：情报员