相较于MPCVD设备中等离子球的体积较小，单次沉积面积有限，无法满足大批量制备单晶金刚石的生产需求，同时其较高的成本也无法满足中低端电子元器件的大规模应用，热丝化学气相沉积法沉积区域可达12英寸(30.48 cm)以上，且沉积装置简单、成本低廉，已经被成功应用于机械工具、电极、密封、MEMS 等领域聚晶金刚石的沉积。

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