哈工大成功研发13.5纳米极紫外光源，这一消息对于国内半导体产业而言，无疑是一针强心剂。据相关研究，掌握先进光源技术后，光刻机研发进程有望大幅加速，预计能缩短至少2 - 3年的研发周期。

一旦EUV光刻机实现量产，对于国内芯片产业成本的降低将产生巨大影响。以当前芯片制造成本结构分析，采用EUV光刻技术可使5纳米芯片成本降低约百分之三十，这将极大提升国内芯片在全球市场的竞争力。
台积电目前在5纳米及以下先进制程芯片市场占有率超百分之八十，若国内实现EUV光刻机量产，台积电市场份额恐大幅下滑，预计未来3 - 5年可能降至百分之五十以下。

科技发展如逆水行舟，不进则退。哈工大的突破为我们带来曙光，我们应乘胜追击，加大科研投入，完善产业链布局。只有这样，才能在全球半导体竞争中占据主动，实现科技产业的全面崛起。