金融界2025年2月21日消息，国家知识产权局信息显示，安徽光智科技有限公司申请一项名为“锗基底高透过宽截止窄带滤光片的膜系的设计方法以及制备方法”的专利，公开号 CN 119493201 A，申请日期为2024年10月。

专利摘要显示，提供一种锗基底高透过宽截止窄带滤光片的膜系的设计方法以及制备方法。锗基底高透过宽截止窄带滤光片的膜系的设计方法包括步骤：Sa，S1面窄带主膜系设计，包括子步骤：分别以4257nm、4513nm、7994nm、10600nm 四个波长作为光学薄膜设计的中心波长，使用 F‑P 腔膜堆公式：Sub/(LH)^32L(HL)^4/AIR，Sub 为锗基底，AIR 代表空气，L 代表 ZnS，H 代表 Ge；生成以 ZnS 打底、ZnS 处于最外层、中间 ZnS 和 Ge 交替的膜层结构；优化得最佳膜层厚度；Sb，S2 面干涉介质膜系设计，包括子步骤：以 550nm 为光学薄膜设计的中心波长，使用膜堆公式：Sub/3.7(H2LK)^7 6.1(K2LH)^8/AIR，Sub 为锗基底，AIR 代表空气，L 代表 ZnS，H 代表 Ge，K 代表 PbTe；生成以 ZnS 打底、ZnS 处于最外层、两头 ZnS 和 Ge 交替、中间 ZnS 和 PbTe 交替的膜层结构；优化得最佳膜层厚度。

天眼查资料显示，安徽光智科技有限公司，成立于2018年，位于滁州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本90000万人民币，实缴资本90000万人民币。通过天眼查大数据分析，安徽光智科技有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目81次，知识产权方面有商标信息19条，专利信息719条，此外企业还拥有行政许可42个。

本文源自：金融界

作者：情报员