金融界2025年3月24日消息，国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“沉积掩模和制造沉积掩模的方法”的专利，公开号CN 119663175 A，申请日期为2024年9月。

专利摘要显示，提供了沉积掩模和制造沉积掩模的方法。制造沉积掩模的方法包括：通过部分地蚀刻硅衬底的前表面来形成在掩模肋区中并且包括多个凹槽的皱褶图案；在多个单元区域中的每个中在硅衬底的前表面上形成包括多个第一开口的第一光致抗蚀剂图案；生长覆盖皱褶图案的多个凹槽的第一镀膜和覆盖第一光致抗蚀剂图案的多个第一开口的第二镀膜；去除第一光致抗蚀剂图案；在硅衬底的后表面上在外框架区中形成第二光致抗蚀剂图案；以及通过使用第二光致抗蚀剂图案部分地蚀刻硅衬底的后表面来暴露用第一镀膜形成的金属掩模肋的后表面和用第二镀膜形成的掩模膜的后表面。

本文源自：金融界

作者：情报员