金融界2025年3月28日消息，国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“提高套刻量测准确性的方法”的专利，公开号 CN 119689798 A，申请日期为2025年1月。

专利摘要显示，本发明提供一种提高套刻量测准确性的方法，包括：提供待进行基于光学衍射的套刻测量的晶圆，晶圆上形成有自下而上依次堆叠的前层套刻标记、层间结构和当层套刻标记，当层套刻标记为图形化的光刻胶层；将晶圆转移至量测机台中，在测量机台中对晶圆进行对准；量测晶圆各曝光区域中的层间结构的厚度；定义出量测区域，量测区域不包括层间结构大于预设厚度的曝光区域，之后对量测区域进行套刻精度的量测；获取量测区域的套刻精度值量测结果本发明剔除层间结构厚度异常的曝光区域，减少厚度对量测结果的影响，提高了基于光学衍射的套刻量测的精度。

天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币，实缴资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2071次，专利信息2252条，此外企业还拥有行政许可343个。

本文源自：金融界

作者：情报员