真是杀人诛心啊！在2024年的总结会上，中微创始人尹志尧教授提到，他在美国从事了40年的刻蚀机研究，起初并未预料到能够实现如此高精度的成果。
当0.02纳米这个数字从中微半导体董事长尹志尧口中宣布出来时，整个半导体行业为之震动，这个精度究竟有多惊人？它相当于人类头发丝的350万分之一，要在如此微观的尺度上进行精确加工，这种技术水平堪比在蚂蚁身上建造摩天大楼，这一突破，不仅标志着中国在高精度刻蚀技术上取得重大进展，更预示着全球芯片产业格局正在悄然改变。
在最初的依赖进口阶段，国内企业几乎完全依靠国外技术和设备维持发展，每当国际形势风云突变，产业链就会受到巨大冲击，面对外部制裁，中国企业不得不在二手市场寻找设备，艰难维持生产，但正是这种困境，推动了中国下定决心走自主创新之路，经过持续攻关，中国成功实现了7纳米芯片的量产，这在没有EUV光刻机支持的情况下，堪称技术奇迹。
上世纪八九十年代，大批优秀的中国留学生选择留在美国发展，他们中的许多人在硅谷扎根，为美国半导体产业发展做出了巨大贡献，据统计，硅谷半导体产业70%的技术突破都与中国科学家有关，然而，近年来这一趋势发生了根本性转变，从“宁愿在美国平庸，也不愿回国高光”的心态，到积极回国建功立业，越来越多的海外华人科学家选择返回祖国，这一转变，既源于中美关系变化带来的推力，也得益于中国科研环境显著改善形成的拉力。
尹志尧的经历就是这一群体的典型代表，作为全球公认的等离子体刻蚀技术专家，他曾在美国泛林科技和应用材料等顶尖企业担任要职，推动这些公司的技术水平跃居世界前列，然而，在美国工作40年后，60岁的尹志尧毅然决定回国创业。
2004年，他带领30多位业内顶尖专家回到中国，创立了中微半导体，20年艰苦奋斗，让中微发展成为行业翘楚，其研发的刻蚀设备不仅满足5纳米以下器件制造需求，还获得国内外一线芯片工厂的广泛认可。
这种人才回流潮创造了一个良性循环，海归科学家带回的不仅是先进技术，更带来了创新思维和国际视野，他们在国内建立研发团队，培养新一代科技人才，推动形成本土创新生态圈，目前，曾经留守硅谷的中国科学家已有约80%选择回国发展，他们分布在半导体产业链的各个领域，成为推动中国芯片技术进步的中坚力量。
反观美国，科技人才的大量流失已经开始显现负面影响，有美国学者通过《纽约时报》发出警告，认为将中国科研人员拒之门外是一个严重错误，随着中国科研环境不断优化，政策支持力度加大，这种人才流失趋势可能还将持续。
信息来源：中微公司尹志尧：硅谷40年来半导体的先进设备，超七成要归功于中国留学生 2024-07-26 09:29:40来源：央广网
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