半导体制造是精密科技的核心产业，但其生产过程中产生的废气具有污染性，若半导体废气处理不当将威胁生态环境与人体健康。本文从半导体废气来源分析切入，深入解读治理必要性、主流处理工艺，并分享可迪尔在上海的半导体废气处理标杆案例，为行业提供可落地的解决方案。

一、半导体废气来源

半导体制造包含光刻、刻蚀、清洗等关键工序，废气主要产生于以下环节：

1.光刻与显影：使用丙酮、异丙醇等有机溶剂清洗晶圆，释放VOCs。

2.化学气相沉积（CVD）：反应尾气中含硅烷、磷化氢等有毒气体。

3.湿法刻蚀与清洗：氢氟酸、硫酸等酸碱溶液挥发形成硫酸雾、氟化氢等酸性废气。

4.离子注入与扩散：高温工艺中可能产生氨气、氯气等有害气体。

典型废气成分：

有机废气：丙酮、异丙醇、乙酸丁酯等

酸碱废气：HF、H3PO₄、H2SO₄雾等

毒性气体：砷化氢、磷化氢等（需特殊处理）

二、半导体废气处理方法主流工艺对比

行业趋势：沸石转轮+RTO因能耗低、适应性强，已成为半导体厂废气治理首选方案。

三、半导体废气处理案例：可迪尔上海项目实践案例

半导体废气处理案例背景

半导体厂废气处理行业：半导体制造

地点：上海

半导体厂废气处理废气类型：

有机废气：风量33000m³/h，浓度200mg/m³，含丙酮、异丙醇等

酸碱废气：风量35000m³/h，浓度20mg/m³，含硫酸雾、氟化氢等

半导体废气处理方案

可迪尔针对半导体生长产线的特点，设计了“沸石转轮吸附浓缩+RTO蓄热燃烧”组合工艺治理有机废气；酸碱废气采用洗涤塔工艺，通过酸碱中和作用去除硫酸、磷酸、氨气等物质，最终实现高效净化和节能降耗的双目标。

沸石吸附效率≥92%

沸石浓缩倍数：25-30倍

RTO去除率≥99%

半导体厂废气处理成果：

处理后的非甲烷≤20mg/m³，排放指标全面优于国家及地方标准，目前系统运行稳定高效。

三、为什么选择可迪尔废气处理方案？

行业经验：累计服务300+半导体企业，熟悉工艺废气特性

技术优势：自主研发沸石转轮材料，耐高温、抗湿性强

定制化设计：根据车间布局灵活配置设备，节省占地面积

智能运维：远程监控系统+定期维保服务，确保长期达标

四、结语

半导体废气处理需兼顾技术可行性与经济性。通过沸石转轮+RTO与化学洗涤塔的组合工艺，可迪尔成功实现上海半导体废气治理项目的超低排放。如需获取半导体定制化处理方案，欢迎联系可迪尔环保工程师团队，我们将为您提供从检测、设计到施工的一站式服务。