金融界2025年4月5日消息，国家知识产权局信息显示，中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司申请一项名为“一种用于真空设备的样品温度均匀性的检测方法”的专利，公开号CN 119756615 A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本发明属于真空设备样品温度检测技术领域，具体地说是一种用于真空设备的样品温度均匀性的检测方法，待检测的样品在真空腔内保持静止不动，对待检测样品进行加热的加热器在真空腔，所述加热器在检测过程中进行旋转动作，通过设置在所述真空腔外部大气环境中的实时监控仪对样品表面温度进行实时检测，并得出样品表面温度均匀性。本发明可以在真空状态下，在实际工况，即加热器与样品有相对旋转运动，实际测量不同炉温时样品的实际温度及其温度均匀性，帮助准确确认样品工艺温度参数及确保一致性的工艺结果，可快速准确掌握样品镀膜过程中的样品温度，有效减少客户摸索工艺时间，并可以此进行工艺开发与优化。

天眼查资料显示，中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司，成立于2001年，位于沈阳市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本17183.91万人民币，实缴资本12565.16万人民币。通过天眼查大数据分析，中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目1028次，财产线索方面有商标信息12条，专利信息260条，此外企业还拥有行政许可18个。

本文源自：金融界

作者：情报员