金融界2025年4月7日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“一种传片口衬套及反应腔装置”的专利，公开号 CN 119764214 A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本发明公开了一种传片口衬套及反应腔装置，该传片口衬套包括：衬套本体，衬套本体的外壁上设有用于调整流场均匀性的调整结构。该反应腔装置包括反应腔本体以及上述的传片口衬套，反应腔本体内设有反应腔室，传片口衬套置于反应腔室内，且反应腔室的内侧壁与传片口衬套的凹槽侧壁之间形成环形气道。通过实施本发明的传片口衬套可实现改善流场均匀性和减少颗粒物污染，进而提高薄膜质量。

天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本50000万人民币，实缴资本36168.02万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参与招投标项目12次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息263条，此外企业还拥有行政许可10个。

本文源自：金融界

作者：情报员