金融界2025年4月10日消息，国家知识产权局信息显示，武汉高德智感科技有限公司申请一项名为“一种光学元件、红外光学系统及红外摄像模组”的专利，公开号CN 119781093 A，申请日期为2025年1月。

专利摘要显示，本发明公开了一种光学元件、红外光学系统及红外摄像模组，该光学元件包括基底，所述基底的一面具有凸面，所述基底的另一面具 有亚波长结构超构表面基底材质为单晶硅，基底一面的凸面采用光刻刻蚀半导体工艺制备而成，基底另一面的亚波长结构超构表面采用光刻刻蚀的半导体工艺制备而成。本发明采用了一面球面与一面超构表面构成一个独立的光学元件，这种结构方式可以结合两种面型的优势高效的利用光学元件，实现光线聚焦和像差控制，提高成像质量，降低了成本，减轻了系统重量，缩小了系统体积。

天眼查资料显示，武汉高德智感科技有限公司，成立于2016年，位于武汉市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本6000万人民币，实缴资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉高德智感科技有限公司参与招投标项目62次，财产线索方面有商标信息79条，专利信息358条，此外企业还拥有行政许可5个。

本文源自：金融界

作者：情报员