金融界2025年4月10日消息，国家知识产权局信息显示，上海为旌半导体有限公司申请一项名为“图像锐度增强方法、装置、存储介质及电子设备”的专利，公开号CN 119784661 A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本申请公开了一种图像锐度增强方法、装置、存储介质及电子设备，其中，该图像锐度增强方法包括根据放大后图像中各目标像素点的第一坐标信息，计算放大前图像中各对应位置的第二坐标信息；基于对应位置的邻域像素点的像素值和第二坐标信息，计算对应位置的有效值；根据有效值，计算邻域像素点的纹理相似性权重；根据对应位置与邻域像素点之间的欧氏距离，计算邻域像素点的欧式距离权重；基于纹理相似性权重和欧氏距离权重计算目标像素点的像素值。本方案可以增强放大后图像的锐度。

天眼查资料显示，上海为旌半导体有限公司，成立于2024年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海为旌半导体有限公司专利信息6条，此外企业还拥有行政许可1个。

本文源自：金融界

作者：情报员