金融界2025年4月22日消息，国家知识产权局信息显示，安赛乐米塔尔公司申请一项名为“用于沉积室的密封气闸”的专利，公开号CN119855936A，申请日期为2023年8月。

专利摘要显示，本发明涉及一种用于沿着运行路径(P)在运行中的金属条带上进行涂覆的真空沉积设施的密封锁(5)，该密封锁(5)包括壁(6)和位于所述壁(6)的内部的至少三对辊，其中，‑所述至少三对辊中的每对辊‑包括具有金属表面的辊(7)和具有弹性体表面层(9)的辊(8)，该弹性体表面层(9)具有3mm至30mm的厚度，所述至少三对辊中的每对辊形成1mm至11mm的间隙，‑两对连续辊中的具有弹性体表面层的辊位于所述运行路径(P)的相对侧。

本文源自：金融界

作者：情报员