金融界 2025 年 4 月 26 日消息，国家知识产权局信息显示，伊克斯拉姆公司申请一项名为“小靶 X 射线系统”的专利，公开号 CN119866532A，申请日期为 2023 年 9 月。

专利摘要显示，公开了一种 X 射线系统，该系统包括：X 射线源；样品位置；检测器，该检测器被布置成检测所述样品位置下游的 X 射线辐射；以及控制器。该 X 射线源包括：电子源，该电子源被布置成提供电子束；靶，该靶被布置成在被所述电子束撞击时在电子束光斑处产生 X 射线辐射，其中，所述靶包括基材和靶层，并且其中，所述靶层呈现孔，该孔的直径小于该电子束光斑的直径；偏转器，该偏转器用于将该电子束引导到所述靶上的第一位置，其中该电子束光斑在所述靶层的远离所述孔的均匀部分处形成，并且将该电子束引导到所述靶上的第二位置，其中该电子束光斑在所述靶的呈现所述孔的部分处形成。该控制器被配置为使用所述检测器获取该电子束被引导到所述第一位置的第一图像以及该电子束被引导到所述第二位置的第二图像，并且生成该第一图像与该第二图像之间的差图像。还公开了对应的方法。

本文源自：金融界

作者：情报员