金融界2025年5月6日消息，国家知识产权局信息显示，苏州清越光电科技股份有限公司申请一项名为“一种OLED掩膜标记结构、OLED刻蚀标记方法”的专利，公开号CN119920802A，申请日期为2025年1月。

专利摘要显示，本发明涉及一种OLED掩膜标记结构、OLED刻蚀标记方法，其在ITO掩膜上设有第一定位识别区，MAM掩膜上设有第二定位识别区，第一定位识别区与第二定位识别区的各识别点在空间上重叠；第一定位识别区包括一个第一空心对位框和一个第一异形对位标，其余识别点为实心对位框；第二定位识别区包括一个第二空心对位框和多个第二异形对位标，第二空心对位框对应于第一异形对位标的位置设置。通过OLED掩膜标记结构在各掩膜上的识别点进行特别设计，从而使得即使MAM刻蚀顺序进行调整，依然可以有效进行前后进行刻蚀时的掩膜定位，实现了同一套掩膜对于先MAM刻蚀工艺与后MAM刻蚀工艺这两种工艺的适应，可节省成本投入，简化了加工工艺，提升了加工效率。

天眼查资料显示，苏州清越光电科技股份有限公司，成立于2010年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本45000万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州清越光电科技股份有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目20次，财产线索方面有商标信息33条，专利信息572条，此外企业还拥有行政许可19个。

本文源自：金融界

作者：情报员