金融界2025年5月8日消息,国家知识产权局信息显示,恩特格里斯公司申请一项名为“用于极紫外光刻的组合物和相关方法”的专利,公开号CN119948039A,申请日期为2023年8月。

专利摘要显示,本发明提供单取代硅醇锡化合物和相关方法。一种方法包括使单取代锡(IV)化合物硅醇化物反应物接触以形成单取代硅醇锡化合物。一种组合物包括单取代硅醇锡化合物。

本文源自:金融界

作者:情报员