金融界2025年5月8日消息，国家知识产权局信息显示，杭州远方光电信息股份有限公司申请一项名为“一种二维光谱仪光谱测量方法”的专利，公开号CN119935310A，申请日期为2025年1月。

专利摘要显示，本发明提供了一种二维光谱仪光谱测量方法，采用交叉色散的方式形成二维谱图，通过谱图计算，获得被测光源的光谱信息；S1：计算理想谱图模型：利用交叉色散元件的色散方程和光学系统结构参数，得到理想情况下入射光的色散波长与空间位置之间的对应关系；S2：获得修正谱图模型：测量已知特征谱线的光源获取二维谱图，对步骤S1中所涉及的光学系统结构参数进行参数反演，得到修正谱图模型；S3：建立波长‑像素映射：将修正谱图模型中波长数据进行坐标值拟合，完成修正谱图模型到实际像素坐标的映射；S4：测量被测光源的光谱信息：利用S3中建立的波长‑像素映射关系，获得被测光源的光谱信息，有效提高二维光谱仪光谱测量的准确性、稳定性和效率。

天眼查资料显示，杭州远方光电信息股份有限公司，成立于2003年，位于杭州市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本26895.8778万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州远方光电信息股份有限公司共对外投资了14家企业，参与招投标项目220次，财产线索方面有商标信息64条，专利信息265条，此外企业还拥有行政许可30个。

本文源自：金融界

作者：情报员