凯斯科技申请包括抛光调节剂的金属膜抛光用浆料组合物和基板的化学机械抛光方法专利,涉及相关抛光技术
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金融界 2025 年 5 月 13 日消息,国家知识产权局信息显示,凯斯科技股份有限公司申请一项名为“包括抛光调节剂的金属膜抛光用浆料组合物和基板的化学机械抛光方法”的专利,公开号 CN119955417A,申请日期为 2024 年 11 月。
专利摘要显示,本发明涉及包括抛光调节剂的金属膜抛光用浆料组合物和基板的化学机械抛光方法。本发明涉及一种包括抛光调节剂的金属膜抛光用浆料组合物,所述抛光调节剂包括烯丙胺类结构单元(A)的聚合物和包含选自由硫(S)、磷(P)和氮(N)组成的群组的至少一种元素的结构单元(Y)的聚合物的共聚物,还涉及利用该金属膜抛光用浆料组合物的化学机械抛光方法。
本文源自:金融界
作者:情报员
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