金融界2025年5月16日消息，国家知识产权局信息显示，新毅东（北京）科技有限公司申请一项名为“光刻机中硅片处光偏振态检测的误差分析方法”的专利，公开号CN119984514A，申请日期为2025年4月。

专利摘要显示，本发明涉及偏振检测技术领域，提供一种光刻机中硅片处光偏振态检测的误差分析方法，根据耦合镜的离焦量确定入射到零级1/4波片的光束的入射角；根据零级1/4波片的光束的入射角，计算零级1/4波片的装调误差对应的波片相位延迟；根据波片相位延迟确定非理想元件状态下的硅片处光的斯托克斯参量；非理想元件状态下考虑零级1/4波片的波片相位延迟和偏振棱镜的双向衰减率；根据非理想元件状态下的硅片处光的斯托克斯参量与预设理想元件状态下的硅片处光的斯托克斯参量，确定硅片处光偏振态检测的误差分析结果。本发明能够实现对硅片处光偏振态检测的精准误差分析，有助于光刻模拟仿真，优化光刻机系统设计，最终提高光刻成像质量。

天眼查资料显示，新毅东（北京）科技有限公司，成立于2014年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本3589.4516万人民币。通过天眼查大数据分析，新毅东（北京）科技有限公司共对外投资了12家企业，参与招投标项目60次，财产线索方面有商标信息28条，专利信息108条，此外企业还拥有行政许可7个。

本文源自：金融界

作者：情报员