金融界2025年5月17日消息，国家知识产权局信息显示，ESTA设备制造有限两合公司申请一项名为“包括第一通道和包围第一通道的第二通道的喷嘴以及喷嘴组件”的专利，公开号CN119998046A，申请日期为2023年10月。

专利摘要显示，本发明涉及一种喷嘴(1.1，1.2，1.3)，所述喷嘴包括：第一喷嘴区段(2.1)，被构造为截锥体；第一通道，在第一喷嘴区段(2.1)的顶表面(3.1)中形成第一喷嘴开口(5.1)；以及第二通道，在第一喷嘴区段(2.1)的侧表面(3.3)中形成第二喷嘴开口(5.2)，其中，每个第二通道具有相对于与喷嘴(1.1、1.2、1.3)的中心轴线(7)平行延伸的平行轴线(8)倾斜的通道轴线(9)。本发明还涉及一种喷嘴组件(20)，所述喷嘴组件包括：供给管线(22)；供给管线开口；至少一个喷嘴(1.1、1.2、1.3，1.4)，包括入口开口(16)；以及至少一个喷嘴保持件(23)，包括容纳部(25)，其中，喷嘴(1.1、1.2、1.3，1.4)包括用于邻接供给管线(22)的凹部(26)，并且其中，喷嘴(1.1、1.2、1.3，1.4)可释放地保持在容纳部(25)处并居中，喷嘴保持件(23)以可释放的方式保持在供给管线处。

本文源自：金融界

作者：情报员