金融界2025年5月21日消息，国家知识产权局信息显示，武汉市太紫微光电科技有限公司申请一项名为“螺吡喃化合物在制备高曝光容差性能的光致抗蚀剂中的应用”的专利，公开号CN120010186A，申请日期为2025年02月。

专利摘要显示，本申请属于微电子器件加工技术领域，更具体地，涉及螺吡喃化合物在制备高曝光容差性能的光致抗蚀剂中的应用。本申请通过将特定结构的螺吡喃化合物引入到光致抗蚀剂中，能够有效提升光致抗蚀剂的曝光宽容度，使得曝光后形成的图形的尺寸变化保持在较小范围内，具有优异的曝光容差性能。

天眼查资料显示，武汉市太紫微光电科技有限公司，成立于2024年，位于武汉市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本200万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉市太紫微光电科技有限公司专利信息3条。

本文源自：金融界

作者：情报员