金融界2025年5月27日消息,国家知识产权局信息显示,易安爱富科技有限公司、爱思开海力士有限公司申请一项名为“氮化硅膜蚀刻用组合物”的专利,公开号CN120041207A,申请日期为2024年11月。

专利摘要显示,本公开涉及一种氮化硅膜蚀刻组合物,相对于氧化硅膜,其对氮化硅膜的蚀刻选择比十分优异,并且具有防止氧化硅膜的异常生长的发生、抑制影响半导体器件特性的颗粒的产生、并且气泡产生高度非常小的优异效果。

本文源自:金融界

作者:情报员